開始 2025-09-21 09:30:00 下一版日期更新

From September 21, 2025 until September 25, 2025
At 美國加利福尼亞州蒙特雷 分類: 科技板塊, 教育服務 標籤: 半導體

SPIE 光掩模技術 + 極紫外光刻

SPIE光掩模技術+紫外光刻。加入 2024 年傑出計畫並分享您的研究。展示您的研究:查看重要資訊。摘要提交詳細資訊 摘要提交詳細資訊。摘要提交的詳細資訊有關演講者的資訊 瀏覽 2024 年會議。 BACUS 贊助的網路研討會。新技術中的光掩模

加入 2024 年傑出計畫並分享您的研究。

在蒙特雷展示您的研究。蒙特利 29 年 3 月 2024 日至 XNUMX 月 XNUMX 日是您展示您的研究的時間。論文徵集已經開始。

Larry Melvin 在 BACUS 季度網路研討會錄製中討論了光掩模技術如何支援 AR/VR 硬體的進步。

創建 SPIE 帳戶或登錄以查看之前的所有網絡研討會錄像。

參加口罩製造商的領先展覽。 了解 EUVL、新興技術和掩模業務。 與領先的供應商會面,他們將展示最新的產品、創新和技術。

了解技術和行業。與您的未來建立重要的聯繫。了解如何免費參加此活動。它包括為學生提供的課程、獎項和助學金。

SPIE 光掩模技術和極紫外光刻技術的獲獎者獲得了應得的認可。慶祝學生的參與並幫助業界支持它。查看之前的獲獎者,開始規劃您的 2024 年提交作品。