對於在半導體產業中尋找新機會的企業來說，中國所研發出的28奈米光刻機的崛起，為他們提供了利用價格實惠且先進的技術的機會。隨著ASML的壟斷地位受到中國技術的挑戰，全世界的企業現在可以以較低的成本來生產高品質的微芯片，而無需像使用ASML的極端紫外線光刻機那樣需要巨大的投資。這些中國製造的光刻機的低成本特性，使得更多企業能夠進入微芯片製造領域，尤其是那些因傳統光刻設備的高昂成本而無法進入該領域的企業。
中國的成功，其實源自於多年來在半導體研發上的大量投資。雖然 28 納米級的機器只佔整個策略的一部分，但這些機器已經對全球市場產生了巨大的影響。透過使用深紫外線光刻技術，中國的技術可以製造出每平方釐米能容納高达 2 億個電晶體的微芯片，這個數字與 ASML 的機器相當。不過，主要的差異在於成本方面——中國的機器成本要低得多，大約在 2 千萬到 5 千萬美元之間，而 ASML 的機器成本則超過了 1 億美元。這種具有成本效益的技術，已經讓 ASML、尼康和佳能等企業感到壓力，因為他們的市場份額正在因為競爭而逐漸減少。
中國在半導體產業上注重自給自足的發展策略，這使得一些重要的突破得以實現。例如，中國的芯片製造商SMIC成功開發出了完全以國內技術為基礎的28奈米製程。這種成就消除了對外國技術的依賴性，進一步提升了中國在市場上的地位。這些發展成果具有極大的影響力，因為它意味著半導體產業中的權力結構正在發生變化。隨著中國不斷追求7奈米和5奈米技術的研發，中國在半導體產業中的角色將會更加重要，這將對那些長期佔據領先地位的企業造成挑戰，迫使他们不得不改變其發展方式，否則就可能落後於中國。