對於尋求半導體產業新機遇的企業而言，中國28奈米光刻機的崛起提供了利用廉價、先進技術的重大機會。隨著ASML的壟斷被中國的進步挑戰，全球各地的公司現在可以獲得高品質的微芯片生產，而不需要通常所需的ASML極紫外光（EUV）機器的巨大投資。這些較低成本的中國機器為更多範圍的公司打開了進入微芯片製造領域的大門，特別是那些因傳統光刻設備高昂成本而被排除在外的公司。
中國成功的核心在於多年來在半導體研發上的大量投資。雖然28奈米機器只是更大策略的一部分，但這些機器已經在全球市場造成重大衝擊。使用深紫外光（DUV）光刻技術，中國的技術可以生產密度達每平方公釐2億個電晶管的微芯片，這與ASML的機器相當。然而，主要差異在於成本——中國的機器便宜得多，範圍從2億美元到5億美元，而ASML的機器則超過1億美元。這種成本效益高的技術已經讓ASML、尼康和佳能感受到壓力，因為他們的市場份額在面對競爭時正在縮減。
中國著眼於半導體生產的自給自足，導致了如中芯國際開發的全國內地28奈米流程等突破性成就。這一成就消除了對外國技術的依賴，進一步鞏固了中國在市場中的地位。這些發展的影響是巨大的，因為它標誌著半導體行業權力動態的轉變。隨著持續推進7奈米和5奈米技術，中國在光刻和微芯片生產中的角色將變得更加重要，挑戰長期佔領市場的領導者適應或落後。